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VVCgr-110/120-1600-氣相沉積爐

簡要描述：熱誘導化學氣相沉積是用于各種電介質(zhì),半導體和金屬材料的保護涂層的沉積的有力方式，無論是單晶，多晶，無定形或外延狀態(tài)上或大或小的形態(tài)。典型的涂層材料包括熱解碳，碳化硅，氮化硼。通過使用合成前體，涂層非常純凈并目滿足半導體工業(yè)的典型要求，根據(jù)工藝參數(shù)，可以有多種層厚度，從單個或幾個原子層到厚度從10納米到數(shù)百微米的固體保護層或功能層，以及厚度達100微米的單片部件，甚至高達數(shù)毫米。

  • 更新日期：2024-11-08
  • 訪  問  量：4414
  • 技術(shù)數(shù)據(jù)
  • 規(guī)格
  • 應(yīng)用
  • 主要成分
  • 下載

氣相沉積爐簡介

熱誘導化學氣相沉積 (英語:chemical vapor deposition ,CVD)是用于各種電介質(zhì),半導體和金屬材料的保護涂層的沉積的有力方式，無論是單晶，多晶，無定形或外延狀態(tài)上或大或小的形態(tài)。典型的涂層材料包括熱解碳，碳化硅，氮化硼。通過使用合成前體，涂層非常純凈并目滿足半導體工業(yè)的典型要求，根據(jù)工藝參數(shù)，可以有多種層厚度，從單個或幾個原子層到厚度從10納米到數(shù)百微米的固體保護層或功能層，以及厚度達100微米的單片部件，甚至高達數(shù)毫米。

熱誘導的化學氣相滲透(英語:chemical vaporinfiltration ,CVI)是一個與CVD有關(guān)的技術(shù)，以在基體材料滲入多孔或纖維預(yù)成型件以制備由復合材料制成的部件具有改善的機械性能，耐腐蝕性，耐熱沖擊性和低殘余應(yīng)力。
技術(shù)特點：

  1. 采用立式、底/頂開門結(jié)構(gòu)：裝、卸料精度高，操作方便；
  2. 采用先進的控制技術(shù)，能精密控制MTS的流量和壓力，爐膛內(nèi)沉積氣流穩(wěn)定，壓力波動范圍小；
  3. 溫度均勻性好：平均溫度均勻性為±5℃；
  4. 采用多通道沉積氣路，流場均勻，無沉積死角，沉積效果好；
  5. 全封閉沉積室，密封效果好，抗污染能力強；
  6. 安全性能好：采用HMI+PLC+PID程序控溫制，安全可靠；
  7. 對沉積產(chǎn)生的高腐蝕性尾氣、易燃易爆氣體、固體粉塵及低熔點粘性產(chǎn)物能進行有效處理；
  8. 多級高效尾氣處理系統(tǒng)，環(huán)境友好，能高效收集焦油及副產(chǎn)物，易清理；
  9. 采用設(shè)計防腐蝕真空機組，持續(xù)工作時間長，維修率極低。

設(shè)備規(guī)格：

產(chǎn)品
編號

產(chǎn)品型號

有效區(qū)尺寸（mm）

冷態(tài)極限真空度(Pa)

最高工作溫度(℃)

適用工藝

C4VGR16

VVCgr-56/60-1600

Φ560x600

1

1600

CVD/CVI

C6VGR16

VVCgr-84/90-1600

Φ840x900

1

1600

CVD/CVI

C8VGR16

VVCgr-110/120-1600

Φ1100x1200

1

1600

CVD/CVI

C10VGR16

VVCgr-140/200-1600

Φ1400x2000

1

1600

CVD/CVI

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  • 電話：13917898272

  • 郵箱：sale@haoyue-group.com

  • 地址：上海市嘉定區(qū)嘉松北路7301號B2棟

  • 工廠：江蘇省南通市通州區(qū)聚豐科創(chuàng)產(chǎn)業(yè)園1號廠房

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